过孔相关的基础知识,面试可能用得到!
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原文来自公众号:信号完整性学习之路
这里所说的过孔Via不是指HDI(High Density Interconnector)使用的盲埋孔,而是MLB更多使用的通孔PTH(Plated through hole) Via。
过孔形状
通孔内径通常有0.2mm、0.25mm和0.3mm,针对不同类产品,会有不同的选择。比如0.3047/0.5588/0.8128 (drill/pad/antipad)。
过孔排列
过孔的排列,更关注于相邻过孔转换之间的耦合,以此来确定缝合过孔的位置选择,保证信号的性能最优化。
·
TX&RX避免靠近
· 垂直打孔
· 错列打孔
实际的版图设计中,不管什么打孔,都是建议保持一定距离,这是防止过孔垂直区域的串扰。
很多规范文件给出的建议值:差分过孔间距25~50mil,回流地孔的距离80~100mil
根据相关的仿真结果给出反焊盘形状:椭圆形和8字形。
过孔影响因素:
还有一个背钻(Back drill)的问题。
对于背钻,主要 钻头尺寸 , 完成厚度 , 完成孔尺寸 ,关键区域的最小深度, 最大背钻深度等由连接器供应商和 PCB 制造商指定,以最大限度地提高 可靠性。
钻头的直径要大于通孔的孔直径,一般背钻孔径= 钻孔直径+10mil 。需要和对应的板厂对接生产工艺,根据加工钻孔的深度工艺公差水平在“不能破坏PCB孔与走线连接”的基础上保证“剩余Stub长度尽可能小”。这里面有个临界区,是指电镀通孔要求必须符合规范的区域。仅允许在非关键区域进行背钻。
什么时候考虑背钻?这个取决于芯片驱动能力,互连链路,信号速率等等。一般的经验是 ≥5Gbps 速率的信号就需要考虑了。
当然,我也看过有的设计,在Stub残桩背钻处理和反焊盘的处理,做了一个取舍。简单来说,过孔背钻的处理解决的是反射的问题,反焊盘的处理解决的是阻抗突变的问题。但这里面其实还有EM问题。
对过孔的定性,除了阻抗,还有其他参数,比如插入损耗、回波损耗、NEXT 和 FEXT,可以更全面了解过孔或过孔阵列的排序。
下面是几种过孔排列形式:
相关仿真得出:红色标记处的参数最好。
还有一个需要注意的是:过孔表面镀铜,高速总线性能可能会受到表面粗糙度的影响,从而导致高频信号衰减,这里面除了铜箔类型,还有工艺的问题。
当然,除了所说的信号过孔,还有电源孔,除了考虑载流能力,还要考虑PDN 的影响。这样说来,过孔可琢磨的方向就更多了。
参考文献:
Design Con2021_Effects of Via configurations
575412-whl-u-pdg-rev2p2