新签订单大幅增长，助推中微公司上半年净利增超过2.3倍

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8月24日晚间，半导体设备厂商中微公司公布2021年半年度报告，公司上半年实现营业收入约13.39亿元，同比增长36.82%；归属于上市公司股东的净利润约3.97亿元，同比增长233.17%；归属于上市公司股东的扣除非经常性损益的净利润约6161.52万元，同比增长53.35%；基本每股收益0.74元/股。

对于业绩的增长，中微公司表示，主要系：受益于半导体设备市场发展及公司产品竞争优势，公司2021年上半年刻蚀设备收入为8.58亿元，较去年同期增长约83.79%，毛利率达到44.29%。由于下游市场原因，公司2021年上半年MOCVD设备收入为2.19亿元，较去年同期下降约10.08%，但本期MOCVD设备的毛利率达到30.77%，较去年同期有大幅度提升。

公告信息显示，2021年上半年，中微公司新签订单金额达18.89亿元，同比增长超过70%，且有部分Mini-LED MOCVD设备规模订单已进入最后签署阶段。

报告期内，中微公司同时本期毛利率为42.34%，较上年同期的33.92%增长约8.42个百分点，公司本期毛利较上年同期增加约2.35亿元。

2021年度上半年，公司研究开发支出共计2.86亿元，政府补助抵减研发费用6970.82万元，研究开发支出净额为2.17亿元。其中：计入研发费用1.68亿元，开发支出资本化4878.04万元。

资料显示，集成电路前段制造设备的市场规模占比超过集成电路总设备整体市场规模的80%。由于等离子体刻蚀设备的市场快速增长，已超过光刻机成为集成电路设备最大的市场。从2010年约50亿美元规模迅速增长到目前的120亿美元左右。

目前，中微公司先期开发了CCP刻蚀机，近年来又开发了ICP刻蚀机。公司的两种刻蚀设备都有单反应台反应器，每台设备可以带有六个独立的反应器，可以满足高端刻蚀应用的需求。微公司的CCP刻蚀设备已广泛的被国内外客户广泛接受，已在5纳米器件上实现量产，并在5纳米以下器件的试生产上实现了突破性的进展。中微公司的ICP刻蚀机进入市场后也已进入高速发展阶段，越来越多地被市场接受。

据中微公司介绍，其等离子体刻蚀设备已应用在国际一线客户从65纳米到14纳米、7纳米和5纳米及其他先进的集成电路加工制造生产线及先进封装生产线。公司MOCVD设备在行业领先客户的生产线上大规模投入量产，公司已成为世界排名前列的氮化镓基LED设备制造商。

据悉，半导体设备是集成电路和泛半导体微观器件产业的基石，而集成电路和泛半导体微观器件，又是数码时代的基础。随着微观器件越做越小，半导体设备，特别是关键设备等离子体刻蚀设备、薄膜设备和光刻设备的极端重要性更加凸显出来。

随着数码产业的发展，下游市场的拓展和政府的大力推动，我国集成电路和泛半导体产业持续成长，中国大陆半导体设备市场规模在全球的占比逐年提升。根据SEMI的报告，2020年中国大陆半导体设备市场规模为187.2亿美元，同比增长39%，首次超过中国台湾地区和韩国，成为全球最大的半导体设备区域性市场。

与此同时，中微公司抓住市场的发展机遇，积极扩产，此前，公司定增募资82.1亿元在上海临港新片区建设中微临港总部和研发中心、中微临港产业化基地，在南昌高新区建设中微南昌产业化基地。

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请注意，以上故事仅为概述性质，并非针对特定公司的实际发展历程。每个公司的具体情况可能因市场环境、技术实力、管理策略等因素而有所不同。如果需要了解特定公司的具体发展故事，建议查阅相关公司的官方网站、新闻报道或行业分析报告。

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