光刻胶专题：光刻胶新闻、帖子、视频尽在电子产品世界

简介

光刻胶是一种高分子材料，被广泛应用于半导体、电子、光学等领域。
光刻胶是涂覆在芯片表面的一种光敏化合物，它经过紫外线曝光和化学蚀刻后能够形成微小的结构。根据不同的应用需求，光刻胶通常分为正胶和负胶两种类型。
光刻胶的主要成分是高分子聚合物，例如聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）或聚苯乙烯（PS）。为了满足不同的性能和应用需求，通常还会添加其他化合物，如硅酮、碘银等。
光刻胶在微电子制造中扮演着关键角色，被广泛应用于芯片制造和MEMS（微机电系统）的制作。此外，它还在光学和光学纤维领域发挥重要作用，例如制造平面显示器、LED、柔性电子、光学透镜和光学波导等方面。

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