专题 < 光刻技术
光刻技术是一种关键的微电子制造工艺，通过光刻机将掩膜图案传输到光刻胶表面，然后利用后续的化学或物理方法去除部分光刻胶，从而形成所需功能和形状的微米级或亚微米级结构。
光刻技术的基本原理是利用凸透镜将紫外线光聚焦在光刻胶表面，触发光刻胶在被照射区域的化学反应或物理变化，随后通过显影、退火等工艺步骤去除部分光刻胶，最终形成目标图案。
光刻技术具有高分辨率、适用于多种材料、批量生产能力强等特点，但其制作流程复杂，环节繁多，成本较高。
在半导体、平板显示、微机电系统（MEMS）、光学元件等领域，光刻技术被广泛应用。例如，在集成电路制造中，光刻工艺可用于制作电路图案和线路连接；在MEMS制造中，光刻技术用于制作微机械构件和传感器；在光学元件制造中，可用于制作透镜、棱镜等光学元件。
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